等离子清洗机 样品活化处理

 该清洗机内置高纯石英仓体，容积为5升。采用了新型的外观结构设计和固态电源技术，使其有效容积增大，不同真空 气体环境下容易匹配，且控制频率稳定。真空仓门有观察窗，可直观物体的处理过程，其射频电源与控制都组装在一个机箱内，即减少了空间的占用，更便于操作和放置，同时与大型清洗机相比较，从检测功能与控制功能的设置上均可一个面板上操作，特别适用科学实验 样品清洗 和教学。

等离子清洗机 样品活化处理

40KHz和13.56MHz等离子清洗机是两种工作频率不同的等离子清洗设备。它们之间的主要区别如下：

1. 工作频率：40KHz等离子清洗机的工作频率为40千赫（40,000赫兹），而13.56MHz等离子清洗机的工作频率为13.56兆赫（13,560,000赫兹）。工作频率不同会导致设备清洗效果和适用范围上的差异。

2. 清洗效果：40KHz的低频等离子清洗对于大多数材料都可以达到较好的清洗效果，但对于一些微米或亚微米级别的颗粒或污染物去除效果可能不佳。而13.56MHz高频等离子清洗则在去除颗粒尺寸较小的污染物方面具有更高的功效，能够提供更*的清洗效果。

3. 清洗速度：13.56MHz等离子清洗速度相对更快，因为具有更高的频率，能更快地传递能量，从而更有效地去除表面污垢。

4. 适用范围：40KHz等离子清洗适用于大部分材料的表面清洗及去除较大颗粒尺寸的污染物，如塑料、金属、玻璃等材料。13.56MHz等离子清洗则更适用于对微米级污染物及颗粒清洗要求较高的应用，如微电子、半导体、光学等行业。

5. 成本：由于13.56MHz等离子清洗技术较复杂，设备制造成本相对较高，价格可能会比40KHz的设备更贵。但根据不同的实际应用需求，适用领域和性能要求可能需要使用较高成本的清洗设备。

综上所述，40KHz和13.56MHz等离子清洗机主要区别在工作频率、清洗效果、清洗速度、适用范围及成本等方面，用户应根据自身的需求和应用领域选择合适的设备。

等离子清洗机 样品活化处理

电感耦合和电容耦合是等离子清洗机中两种不同的能量传递方式，它们的主要区别在于能量传递的方式和应用场景。

1. 电感耦合（Inductively Coupled Plasma, ICP）：

电感耦合等离子体是通过高频磁场与等离子体的相互作用来传递能量的。在电感耦合的过程中，高频电流通过螺线管产生高频磁场，高频磁场切割等离子体产生涡旋电流，从而将能量传递给等离子体。这种方式的优点是稳定性好，能量传递高效，适用于高密度等离子体的产生，广泛应用于材料刻蚀、沉积和离子辅助沉积等领域。

2. 电容耦合（Capacitively Coupled Plasma, CCP）：

电容耦合等离子体是通过交变电场与等离子体的相互作用来传递能量的。在电容耦合的过程中，两个电极之间施加高频交变电压，由于等离子体与电极之间的电容效应，导致等离子体内部产生高频电场，从而将能量传递给等离子体。这种方式的优点是结构简单，能量传递相对低效，适用于低密度的等离子体产生，常用于等离子清洗、薄膜沉积等应用场景。

总结：

电感耦合和电容耦合的主要区别在于能量传递的方式，电感耦合通过高频磁场传递能量，适用于高密度等离子体；而电容耦合通过交变电场传递能量，适用于低密度等离子体。根据实际应用场景和等离子体要求，可以选择不同的能量传递方式。