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GVC-2000T高真空磁控离子溅射仪
具体成交价以合同协议为准
2023-03-13
- 型号
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产品简介
描述全自动知识产品没有热损伤
详细信息
描述
全自动知识产品
没有热损伤，效率更高，颗粒度更细，更适合高分辨电镜
应用领域
- 高分辨扫描电镜样品制备（实际放大倍数≥100K）
- 电极制备-可制备各种金属电极、ITO电极
设备配置与技术参数
| 名称&型号 | 高真空磁控离子溅射仪GVC-2000T |
| 真空系统 | 涡轮分子泵（进口 ）：德国莱宝90i （单磁悬浮分子泵，抽速为90L/s） 旋片式真空泵：浙江飞越VRD-4 （抽速为 1 .1L/s） |
| 真空测量 | 全量程复合真空规（进口）：1.0E5Pa-1E-4Pa |
| 系统极限真空 | ≤5E-3Pa |
| 溅射电源 | 磁控溅射电源,功率150W |
| 可用靶材 | 所有金属靶材，ITO靶材 |
| 溅射电压 | 300-600V,根据选择靶材、控制参数不同而变化 |
| 溅射电流 | 0-200mA连续可调,步长5mA |
| 溅射时间 | 0-9999s, 连续可调步长1s |
| 操作界面 | 7英寸TFT彩色液晶触摸屏,分辨率800×480 |
| 操作方式 | 一键操作 |
| 抽气节拍 | ＜15分钟 |
| 控制方式 | 只需设定溅射电流和时间即可，全自动控制 具备预溅射挡板（预溅射时间可设定),全自动控制 |
| 保护功能 | 软硬件互锁、防止误操作，具备电流、真空保护等 |
| 样品台直径 | φ125mm，可自转，可自动手动控制，转速4-40rpm可调 |
| 真空室 | 高硅硼玻璃，规格尺寸约φ200×130mm |
| 电源供电 | 220V 50Hz 功率800W |
| 尺寸&重量 | 重量 424（长) ×345（深) ×420mm（高）、 25 kg （净重) |
| 冷却方式 | 内部风冷 |
| 选配 | 样品台选择、膜厚控制、温度监测等 |
镀膜样品示例：
靶材-银 靶材-钨 靶材-铬
靶材-镍 靶材-钒 靶材-锡
靶材-铜 靶材-钽 靶材-贴
靶材-钛 靶材-铅 靶材-钼
靶材-铝 靶材-铂 靶材-金
靶材-锆 靶材-铒 靶材-ITO
