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NSC-3500(A)全自动磁控溅射系统

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2022-11-09国外
型号
参数
品牌:其他品牌 产地:进口 加工定制:是
那诺-马斯特中国有限公司

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薄膜沉积、生长、刻蚀、清洗,磁控溅射,ALD,PECVD,RIE,热蒸镀,电子束,离子束,热真空试验,晶圆清洗机,PA-MOCVD
产品简介
NSC-3500(A)全自动磁控溅射系统:立式自动系统,带有水冷或者加热(可加热到700度)功能,可达6“旋转平台,支持到4个偏轴平面磁控管。系统配套涡轮分子泵,极限真空可达10-7 Torr,15分钟内可以达到10-6 Torr的真空。通过调整磁控管与基片之间的距离,可以获得想要的均匀度和沉积速度。
详细信息

NSC-3500(A)全自动磁控溅射系统概述:带有水冷或者加热(可加热到700度)功能,可达到6"旋转平台,支持到3个偏轴平面磁控管。系统配套涡轮分子泵,极限真空可达10-7 Torr,15分钟内可以达到10-6 Torr的真空。通过调整磁控管与基片之间的距离,可以获得想要的均匀度和沉积速度。

NSC-3500(A)带有14”立方形不锈钢腔体,32”的磁控管,DC直流和RF射频电源。 在选配方面,350 l/s涡轮分子泵,额外的磁控管和衬底加热功能。


NSC-3500(A)全自动磁控溅射系统产品特点:

  • 不锈钢腔体

  • 260l/s或350l/s的涡轮分子泵,串接机械泵或干泵

  • 13.56MHz300-600W RF射频电源以及1KW DC直流电源

  • 晶振夹具具有的<1 ?的厚度分辨率

  • 带观察视窗的腔门易于上下载片

  • 基于LabView软件的PC计算机控制

  • 带密码保护功能的多级访问控制

  • *的安全联锁功能

  • 预真空锁以及自动晶圆片上/下载片



选配项:

  • RFDC溅射

  • 热蒸镀能力

  • RFDC偏压(1000V

  • 样品台可加热到700°C

  • 膜厚监测仪

  • 基片的RF射频等离子清洗



应用:

  • 晶圆片、陶瓷片、玻璃白片以及磁头等的金属以及介质涂覆

  • 光学以及ITO涂覆

  • 带高温样品台和脉冲DC电源的硬涂覆

  • RF射频等离子放电的反应溅射




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