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磁控溅射用于单层膜/多层膜/磁性膜制备
具体成交价以合同协议为准
2022-06-02上海
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磁控溅射仪，电子束蒸发镀膜仪，离子减薄仪，微波等离子化学气相沉积系统（MPCVD），化学束外延系统，电磁场场分布测试仪，等离子处理，刻蚀机，光学软件与材料（金刚石），HFCVD，BSDF/BRED测量仪，电磁场仿真软件
产品简介
关键词：单层膜、多层膜、磁性膜、光学膜、金属膜、绝缘膜、半导体膜连续沉积、进口磁控溅射、SiO2、ZrO2、TiO2、DC靶、RF靶型号：MP900S产地：欧洲应用：单层膜、多层膜、磁性膜配置多个可更换金属靶：Ni
详细信息
关键词：单层膜、多层膜、磁性膜、光学膜、金属膜、绝缘膜、半导体膜
连续沉积、进口磁控溅射、SiO2、ZrO2、TiO2、DC靶、RF靶
型号：MP 900S 产地：欧洲 应用：单层膜、多层膜、磁性膜
配置多个可更换金属靶：Ni, Pt, Al, NiCr, Au, Ge, Ti, TaN
衬底双行星运动，可加载4英寸衬底
LOAD LOCK及主腔体均配备分子泵和干泵
可沉积多层膜，可原位应力检测
应用于X-射线等领域.
6个高度可调阴极磁控管
3个1.5kW直流靶，3个1kW射频靶
氩气、氧气、氮气气路，分别配备MFC
全自动电脑控制，半自动和手动模式可用，支持远程维护
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