离子束刻蚀系统

产品简介

离子束刻蚀系统的基本原理是利用辉光放电原理将氩气分解为氩离子，氩离子经过阳极电场的加速对样品表面进行物理轰击，以达到刻蚀的作用。把Ar气充入离子源放电室并使其电离形成等离子体，然后由栅极将离子呈束状引出并加速，具有一定能量的离子束进入工作室，射向固体表面轰击固体表面原子，使材料原子发生溅射，达到刻蚀目的，属纯物理刻蚀。

主要技术指标：

1.极限真空：9´10^-5Pa

2.刻蚀均匀性与重复性：3英寸衬底均匀性优于±5% ，重复性优于±5%

3.刻蚀速率:200nm/min

4.基片尺寸：≤4英寸

5.刻蚀气体：:Ar

主要用途

主要用于金属材料的刻蚀

公司主要研发、制造和销售的检测仪器有：电压击穿试验仪、高压漏电起痕试验仪、耐电弧试验仪、铁电材料测试仪器、介电常数及介质损耗测试仪、表面及体积电阻率测试仪、压电材料测试仪器、热电材料测试仪器、绝缘材料电性能检测设备、高温管式炉\\反射炉\\气氛炉、高温电性能测试设备、EST静电检测仪器、硅橡胶\\绝缘子行业测试设备、PCB\\三防漆电子材料测试、电气薄膜电学检测仪器、高低压电气材料测试设备、电线电缆行业电学测试设备、高分子材料电学测试仪器、热分析仪器、电气安规检测仪器、半导体芯片类测试仪器等，可接定制仪器订单。