ALLIED 自动研磨系统MultiPrep™系统适用于高精微（光镜，SEM，TEM，AFM等）样品的半自动准备加工。主要性能包括平行抛光、精确角抛光、定址抛光或几种方式结合抛光。它保证良好的重现性，可以解决多用户使用的矛盾。 MultiPrep 无须手持样品，保证只有样品面与研磨剂接触.

 ALLIED 自动研磨系统双测微计（倾斜度和摆动度）允许相对于研磨盘进行精确的样品倾斜度调整；精密的Z-轴指示器保证在整个研磨/抛光过程中维持预定义的几何方向。

 数字指示器可以量化材料去除率，可以实时监测或进行预先设定的无人操作；可变速的旋转和振荡，能够zui大限度地提高整个研磨/抛光盘的使用和减少手工制品；可调负荷控制，扩大了其从小样品（易碎样品）到大样品的*处理能力。

常见的应用包括并联电路层级，横截面，楔角抛光等。

特点：

1. 前数字指示器显示实时的材料去除率（样品的行程），1微米分辨率
2. 精确主轴设计保证样品垂直于研磨盘，使之同时旋转。
3. 双轴测微计控制样品角坐标设置（斜度和摆度），+10°/-2.5°幅度， 0.01° 增量。
4. 后置的数字指示器显示垂直位置（静态），具有归零功能，1微米分辨率
5. 6倍速样品自动摆动。
6. 齿轮传动主轴应用于要求较高的转动力矩，如较大或封装的样品。
7. 凸轮锁紧钳无需其他辅助工具，方便用户重新设置工作夹具。
8. 8倍速样品自动旋转。
9. 样品调整范围：0-600克（100克增量）
10. 研磨盘速度范围：5-350 RPM（5转速增量）
11. 触摸面板控制所有功能。
12. ¼ HP（190瓦）耐用的减速箱电机提供高转矩
13. 数字计时器和转速表
14. 顺时针/逆时针研磨盘旋转
15. 易清洁，避免碎片堆积
16. 调节阀控制电子冷却液